【破壞分析實驗室】

管理教師：郭鴻耀 老師

位置：機械工程館M104

【實驗室簡介】

本實驗室為校內推進前瞻材料工程、先進表面處理與光電科技的核心研發基地。研究範疇深耕於「金屬材料電漿改質」與「真空技術暨光電薄膜應用」，結合高溫力學測試與多元薄膜鍍膜技術，致力於開創具備高附加價值的先進材料與元件開發。

1. 電漿表面改質，突破金屬極限： 專精於離子氮化與電漿披覆技術，強化金屬材料表面硬度、耐磨性與耐蝕性，深耕材料高溫疲勞機制研究。
2. 真空鍍膜技術，驅動光電創新： 以氧化物與氮化物薄膜為核心，運用高階雙離子束濺鍍技術，精準調控光電薄膜特性，開創前瞻元件應用。
3. 先進檢測與量測，確保極致品質： 備有動態萬能試驗與硬質膜測試系統，具備從材料合成、表面改質到完整力學與薄膜檢測的一站式研發量能。

【研究方向】

1. 光電薄膜技術與應用

2. 真空技術與應用

3. 材料高溫疲勞與研究

4. 電漿表面改質與研究

【核心加工設備】

薄膜與鍍膜系統： 雙離子束濺鍍系統、電漿表面改質披覆系統

力學與特性檢測設備： 動態萬能試驗機、硬質膜測試系統

【實驗室照片】

【其他】

 

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